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為什么半導(dǎo)體行業(yè)偏愛富士,而光學(xué)廠商更青睞Yamabun?

發(fā)布時(shí)間:2025-08-12 點(diǎn)擊量:136

半導(dǎo)體行業(yè)和光學(xué)廠商在選擇測(cè)厚儀時(shí)存在明顯偏好差異,這主要源于兩個(gè)品牌產(chǎn)品的技術(shù)特性、測(cè)量原理和應(yīng)用場(chǎng)景的適配性。以下從核心技術(shù)、行業(yè)需求、測(cè)量對(duì)象等維度分析這一現(xiàn)象的原因:

一、半導(dǎo)體行業(yè)偏愛富士測(cè)厚儀的核心原因

  1. 超薄材料的高精度測(cè)量需求
    半導(dǎo)體制造中的抗蝕劑、氧化膜、氮化膜等材料厚度通常在納米至微米級(jí)(如3-100μm),富士的FT-A200R接觸式測(cè)厚儀分辨率達(dá)0.01μm,線性度±0.2%,重復(fù)精度0.05μm,能精準(zhǔn)測(cè)量3μm起的超薄膜。而Yamabun的非接觸式設(shè)備(如TOF-S)對(duì)透明膜更適用,但半導(dǎo)體材料多為不透明或多層結(jié)構(gòu),接觸式測(cè)量更可靠。

  2. 可調(diào)測(cè)量壓力避免損傷脆弱材料
    富士測(cè)厚儀支持0.3N可調(diào)壓力,避免測(cè)量時(shí)劃傷晶圓或變形。半導(dǎo)體材料(如拋光硅片)對(duì)表面完整性要求高,接觸式探頭可通過壓力優(yōu)化平衡精度與保護(hù)性。

  3. 產(chǎn)線集成與連續(xù)測(cè)厚能力
    富士的FT-D系列(如FT-D210NLT)專為工業(yè)產(chǎn)線設(shè)計(jì),支持無引線測(cè)量和分切機(jī)集成,滿足半導(dǎo)體制造中連續(xù)在線檢測(cè)需求3。而Yamabun的TOF-S為臺(tái)式離線設(shè)備,更適合實(shí)驗(yàn)室抽檢。

  4. 材料兼容性更廣
    半導(dǎo)體涉及硅片、化合物襯底(如GaAs)等多種材料,富士測(cè)厚儀通過機(jī)械接觸式測(cè)量不受材料光學(xué)特性限制,而Yamabun的光學(xué)干涉法僅適用于透明或平滑膜層。

二、光學(xué)廠商青睞Yamabun的關(guān)鍵因素

  1. 非接觸式測(cè)量保護(hù)光學(xué)鍍膜
    光學(xué)鏡片、AR膜等表面鍍膜易被接觸探頭損傷。Yamabun的TOF-S采用分光干涉原理,無需接觸即可測(cè)量1-150μm的透明膜厚,且重復(fù)性達(dá)±0.01μm,適合光學(xué)鍍膜的無損檢測(cè)。

  2. 多層膜與透明材料的專項(xiàng)優(yōu)化
    光學(xué)產(chǎn)品常需測(cè)量多層膜(如ITO+AR膜)或透明涂層(如聚酰亞胺),Yamabun的光譜干涉技術(shù)可解析多層結(jié)構(gòu),而富士的接觸式單點(diǎn)測(cè)量難以區(qū)分復(fù)合層。

  3. 環(huán)境穩(wěn)定性與溫漂控制
    光學(xué)測(cè)量對(duì)溫度敏感,Yamabun的TOF-S設(shè)計(jì)為溫度變化1℃內(nèi)影響極小,適合高精度實(shí)驗(yàn)室環(huán)境;富士設(shè)備雖精度高,但機(jī)械結(jié)構(gòu)可能受產(chǎn)線振動(dòng)干擾。

  4. 適配光學(xué)膜的特殊需求
    如Filmetrics F50(光學(xué)干涉原理)能測(cè)量折射率,這對(duì)光學(xué)膜的光學(xué)性能驗(yàn)證至關(guān)重要,而富士測(cè)厚儀僅提供厚度數(shù)據(jù)。Yamabun類似技術(shù)更貼合光學(xué)廠商的復(fù)合需求。

三、技術(shù)路線差異對(duì)比

維度富士(Fujiwork)Yamabun
測(cè)量原理接觸式機(jī)械探頭非接觸式(光譜干涉/超聲波)
最高分辨率0.01μm (FT-A200R)±0.01μm (TOF-S)
適用材料不透明/多層/硬質(zhì)材料(如硅片)透明/平滑膜(如光學(xué)鍍膜)
產(chǎn)線適配性強(qiáng)(一體式/在線集成)3弱(主推臺(tái)式離線設(shè)備)
附加功能厚度+壓力控制厚度+折射率/多層分析

四、結(jié)論:行業(yè)需求驅(qū)動(dòng)技術(shù)選擇

  • 半導(dǎo)體行業(yè)優(yōu)先考慮超薄、高精度、產(chǎn)線兼容性,富士的接觸式技術(shù)更符合其嚴(yán)苛的工藝控制需求。

  • 光學(xué)廠商側(cè)重?zé)o損測(cè)量、多層分析、環(huán)境穩(wěn)定性,Yamabun的非接觸光學(xué)技術(shù)優(yōu)勢(shì)明顯。


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